uv光解除臭設備的技術性能***點

 

目前***內外控制惡臭的方法主要有物理法、化學法和生物法，包括吸附法、直接燃燒法、催化燃燒法、化學氧化法、生物過濾法等處理方法。這些控制技術需要從臭氣處理效果、工程投資、運行成本、自控程度、占地、是否存在二次污染等方面對技術設備進行評價，這是無法與uv光解除臭設備產(chǎn)品相比的。

 

1.通過***殊的高能紫外-紫外光束照射惡臭氣體，以裂解惡臭氣體如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲基硫化物、二甲基二硫化物、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯的分子鍵。

 

2.利用高臭氧分解空氣中的氧分子，產(chǎn)生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負電子不平衡，需要與氧分子結合，進而產(chǎn)生臭氧，使處于游離狀態(tài)的污染物分子被氧化，與臭氧結合，形成小分子無害或低有害化合物。如二氧化碳、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。

 

3.用專用催化劑進行氧化還原反應；利用高能紫外光束、臭氧和催化劑對惡臭氣體進行分解氧化，將惡臭氣體降解轉化為低分子化合物、水和二氧化碳，達到徹底除臭殺菌的目的。

 

uv光解除臭技術的性能***點

 

1.高效除味:可高效去除揮發(fā)性有機物(VOC)和各種惡臭，除臭效率可達99%以上。

 

2.無需添加任何物質:只需設置相應的排氣管和排氣功率。

 

3.適應性強:能適應高濃度和***氣量，可24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。

 

4.運行成本低:本設備無機械動作，無噪音，不需要專人管理和日常維護。

 

5.無需預處理:工作環(huán)境溫度在-30℃-95℃之間，濕度在30%-98%之間，PH值在3-13之間。

 

6.設備占地面積小；自重輕；設備處理10000 m3/h風量所占面積<1平方米。

 

7.防火防爆防腐性能高，光解除臭設備性能安全穩(wěn)定。

 

8.環(huán)保高科技產(chǎn)品:采用***際先進技術，能徹底分解惡臭氣體中的有毒有害物質，達到完美的除臭效果。分解后惡臭氣體可完全無害排放，無二次污染。

 

uv光解除臭設備的技術應用范圍

 

uv光解除臭設備廣泛用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉站等惡臭氣體的除臭凈化。