光催化除臭設備效果及除臭效率

 

光催化除臭設備效果和效率；

可去除烴類、醛類、酚類、醇類、硫醇類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物等多種有機廢氣及其他VOC有機無機物質。

對鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷農藥等原子有機物也有很好的去除效果，只要達到一定的反應時間和反應環境比，就能實現完全氧化。可以說羥基自由基的氧化對象幾乎是非選擇性的，可以與任何已有的物質發生反應。除臭凈化效果可達96%以上，除臭效果大大超過1993年頒布的國家惡臭物質排放標準(GB14554-93)。

外部可見光催化光催化氧化。光催化氧化利用半導體和空氣作為催化劑，光作為能量，將有機物降解為CO2和H2O。使用的半導體是目前反應效率高的納米二氧化鈦光催化劑，經蜂窩陶瓷承載的特殊處理后使用，效果理想。

在光催化氧化反應中，電子空穴對通過紫外線照射在納米二氧化鈦光催化劑上生成，與吸附在表面的水(H2O)和氧(O2)反應生成羥基自由基(OH-)和超氧自由基(O2-，0-)，具有非常活躍的氧化波。它能在光催化氧化的作用下，將醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物等多種揮發性有機和無機物質等各種惡臭廢氣還原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)等無毒無害物質，具有除臭、消毒、殺菌的功效。由于光催化氧化反應過程中沒有添加劑，不會產生二次污染。