光解廢氣凈化除臭設備 UV廢氣除臭設備 uv光催化氧化設備 磁感UV除臭設備 UV廢氣除臭凈化器 UV光解催化除臭設備 活性炭吸附凈化除臭設備 UV光解除臭設備
光解除臭處理技術介紹
本產品采用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射惡臭氣體和二氧化鈦進行光催化,催化裂解惡臭氣體如氮氣、三甲胺、硫化氫、甲硫醚、甲硫醇、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯、二甲苯等的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解為CO2、H2O等低分子化合物。
二氧化鈦的光催化活性在很***程度上影響光催化反應速率,而二氧化鈦的光催化活性主要受二氧化鈦的晶型和粒徑的影響。銳鈦礦型二氧化鈦具有高催化活性。隨著粒徑的減小,電子和空穴簡單復合的幾率降低,光催化活性增加。此外,孔隙率、平均孔徑、顆粒表面狀態、純度等。對其光催化活性也有一定影響。為了提高光降解效率,對二氧化鈦光催化劑進行了改性,如制備納米二氧化鈦、制備二氧化鈦復合半導體、摻雜金屬離子、敏化染料等。二氧化鈦催化劑也可以通過各種先進的手段來制備,以提高光催化劑的活性。
空氣中的氧分子被高能臭氧紫外線束分解,產生游離氧,即活性氧。由于自由氧攜帶的正負電子不平衡,氧分子結合產生臭氧。+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。眾所周知,臭氧對有機物有很強的氧化作用,對惡臭氣體和其他刺激性氣味有立即去除作用。
光解除臭處理設備的產品***點:
①運行成本低:設備能耗低(每1000m3/h處理僅0.54度電耗),無機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需定期檢查,設備抗風能力低。
②無預處理和環境要求:惡臭氣體不需要加熱、加濕等***殊預處理,設備在-300℃-950℃,溫度30%-98%,PH值3-11條件下能正常工作。
③占地面積小,設備自重輕:適用于布局緊湊、場地狹小等***殊情況。設備的占地面積<1.5平方米/處理10000m3/h風量。
④***質材料制造:耐火耐腐蝕、性能穩定、使用壽命長等。
⑤環保高科技產品:我公司專家和工程技術人員經過長期反復試驗開發的設備產品,能徹底分解惡臭氣體中的有毒有害物質,達到完美的除臭效果。分解后的惡臭氣體可以完全實現無害化排放,不會產生二次污染,實現高效快速的消毒滅菌。
⑥高效快速去除除臭:能高效快速去除揮發性有機化合物(VOC)、無機物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物。,以及各種惡臭氣味。除臭效率可達90%以上,除臭效果******超過***家惡臭污染物排放標準(GB14554-93)。
⑦無需添加任何物質:只需設置相應的排氣管和排氣動力,通過設備對惡臭氣體進行除臭、分解和凈化,無需添加任何物質參與化學反應。
⑧適應性強:能適應高濃度、***氣量、不同惡臭氣體物質的除臭凈化處理,可24小時連續工作,運行安全、穩定、可靠。