光解廢氣凈化除臭設(shè)備 UV廢氣除臭設(shè)備 uv光催化氧化設(shè)備 磁感UV除臭設(shè)備 UV廢氣除臭凈化器 UV光解催化除臭設(shè)備 活性炭吸附凈化除臭設(shè)備 UV光解除臭設(shè)備
由于在聚合物表面處理低溫等離子體的交聯(lián)、化學(xué)改性和腐蝕,主要的原因是等離子體使聚合物表面化學(xué)鍵產(chǎn)生***量的基。實(shí)驗(yàn)表明,當(dāng)?shù)入x子體處理時(shí)間延長,放電功率增***時(shí),產(chǎn)生的基強(qiáng)度增加,達(dá)到***點(diǎn),并進(jìn)入動態(tài)平衡。當(dāng)放電壓力達(dá)到一定的值時(shí),就會出現(xiàn)基強(qiáng)度的***值,也就是在一定條件下對聚合物表面的低溫等離子體反應(yīng)的程度。